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氢封端硅纳米片制氢抗炎症
发布时间:2024-04-17 分享至:
H2能够作为一种新兴治疗气体,表现了优异的生物安全性、较好的组织渗透性、自由基捕获能力,因此被成为是一种具有前景的抗氧化剂。但是目前仍没有治疗炎症疾病的简单高效生成H2的方法。
有鉴于此,中科院上海硅酸盐研究所施建林、林翰等报道一种简单方便的湿法化学剥离合成方法,合成氢封端修饰的Si纳米片,能够与环境水反应生成H2,生成H2的过程能够在没有提供额外能量的条件持续的进行,而且通过理论计算揭示说明H-Si纳米片具有优异制H2的原因。
本文要点
(1)
合成的H封端Si纳米片***实现了优异的制氢性能和高效抗氧化应激应用,展示了这种二维H-Si材料在按需要产生氢气用于通过清除活性氧物种实现治疗急性炎症的能力,这项研究展示了一种新型高效率有效的H2诊疗技术。
参考文献
Yanling You, Ya-Xuan Zhu, Junjie Jiang, Min Wang, Zhixin Chen, Chenyao Wu, Jie Wang, Wujie Qiu, Deliang Xu, Han Lin*, and Jianlin Shi*, Water-Enabled H2 Generation from Hydrogenated Silicon Nanosheets for Efficient Anti-Inflammation, J. Am. Chem. Soc. 2022
DOI: 10.1021/jacs.2c04412
https://pubs.acs.org/doi/10.1021/jacs.2c04412
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